Nhật Bản tăng tốc đầu tư vật liệu quang khắc cho chip 2nm

Nhật Bản tăng tốc đầu tư vật liệu quang khắc cho chip 2nm — Tokyo Ohka Kogyo và JSR dẫn đầu cuộc đua

Khi cuộc đua sản xuất chip toàn cầu tiến vào kỷ nguyên 2nm, các nhà sản xuất vật liệu bán dẫn Nhật Bản đang tăng cường đầu tư để củng cố vị thế trung tâm trong chuỗi cung ứng công nghệ cao. Theo Nikkei, nhiều tập đoàn vật liệu lớn của Nhật như Tokyo Ohka Kogyo, Adeka và JSR vừa công bố kế hoạch đầu tư mới.

Tokyo Ohka Kogyo đầu tư 20 tỷ yên xây nhà máy quang khắc tại Hàn Quốc

Công ty hóa chất Tokyo Ohka Kogyo (TOK) sẽ đầu tư 20 tỷ yên (khoảng 130 triệu USD) để xây dựng nhà máy sản xuất photoresist tại Hàn Quốc, theo Chủ tịch Noriaki Taneichi. Nhà máy dự kiến đi vào hoạt động năm 2030, giúp mở rộng công suất tại Hàn Quốc gấp 3–4 lần hiện nay.
Khách hàng chính của TOK sẽ là Samsung Electronics và SK hynix, với các sản phẩm photoresist phục vụ đóng gói chip nhớ và linh kiện bán dẫn tiên tiến.
Theo Nikkei, TOK cùng các nhà sản xuất Nhật khác như JSR chiếm khoảng 91% thị phần toàn cầu về photoresist. Ngoài ra, TOK còn có kế hoạch đầu tư thêm 12 tỷ yên xây dựng cơ sở sản xuất hóa chất siêu tinh khiết phục vụ quy trình chế tạo bán dẫn.

Adeka và JSR đẩy mạnh phát triển vật liệu kháng kim loại (MOR)

Không chỉ TOK, các công ty Nhật khác cũng đang đầu tư vào vật liệu kháng kim loại (Metal Oxide Resist – MOR), yếu tố then chốt trong công nghệ quang khắc EUV cho chip tiên tiến.
Adeka dự kiến chi 3,2 tỷ yên để lắp đặt dây chuyền sản xuất hàng loạt vật liệu photoresist mới tại nhà máy ở Ibaraki, bắt đầu hoạt động sau tháng 4/2028.
Trong khi đó, JSR cũng đang xây dựng nhà máy MOR tại Hàn Quốc, dự kiến hoàn thành cuối năm 2026. MOR có độ phân giải cao hơn so với các loại photoresist thông thường và đặc biệt phù hợp để tạo mạch siêu nhỏ cho chip 2nm.

Nhật Bản củng cố vị thế thống trị trong thị trường quang khắc toàn cầu

Các khoản đầu tư quy mô lớn này được kỳ vọng sẽ giúp Nhật Bản tiếp tục giữ vững vị thế dẫn đầu trong lĩnh vực vật liệu bán dẫn.
Dù Trung Quốc đang nỗ lực phát triển photoresist nội địa, họ mới chỉ đạt được bước tiến trong dòng i-line và KrF, còn khoảng cách về công nghệ và chi phí để thương mại hóa photoresist EUV cao cấp vẫn còn rất lớn.